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En este trabajo se presentan diferentes métodos empleados para el análisis de espectros ópticos de emisión. El propósito es calcular la temperatura de excitación (Texc), temperatura electrónica (Te) y densidad electrónica (ne) empleando diversas técnicas usadas en el crecimiento de películas delgadas. Algunas de estas técnicas incluyen magnetron sputtering y descargas n arco. Inicialmente, se describirán algunos principios fundamentales que soportan la técnica de Espectroscopía Óptica de Emisión (EOE); posteriormente, se considerarán algunas reglas que deben considerarse para el análisis de espectros con el fin de evitar ambigüedades. Finalmente, se presentarán algunos d los métodos espectroscópicos más determinar las propiedades físicas de plasmas. PACS: 52.25.Dg, 31.15.V