Pulsed processing by cold plasma, applied to industrial emission control oleh E. J. M. Van Heesch, T. Huiskamp, K. Yan, K. Yan, F. J. C. M. Beckers, H. W. M. Smulders, G. J. J. Winands, R. H. P. Lemmens, P. P. M. Blom, S. Davalos Segura, W. F. L. M. Hoeben, S. V. B. Van Paasen, J. J. Van Oorschot, A. G. A. Bonkestoter, M. L. J. Van Den Brand, M. Hennink, R. W. J. Smulders, A. J. M. Pemen, P. C. T. Van Der Laan